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簡(jiǎn)要描述:上海CIK直銷(xiāo)CDL2000納米碳酸鈣分散機 ,納米碳酸鈣研磨分散機,納米碳酸鈣分散設備,碳酸鈣分散機,超細分散機,納米分散機可生產(chǎn)粒徑較大單粒徑分布范圍較窄的乳液。它具有較高的剪切率,保證了混合液的穩定性。選用不同的分散頭(轉子+定子)組合,可滿(mǎn)足不同的工藝和流體學(xué)要求。
產(chǎn)品型號:
所屬分類(lèi):納米分散機
更新時(shí)間:2024-03-05
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【產(chǎn)品介紹】
一、產(chǎn)品名稱(chēng):納米碳酸鈣分散機,納米碳酸鈣研磨分散機,納米碳酸鈣分散設備,碳酸鈣分散機,超細分散機,納米分散機
二、納米碳酸鈣簡(jiǎn)介
納米碳酸鈣又稱(chēng)超微細碳酸鈣。標準的名稱(chēng)即超細碳酸鈣。納米碳酸鈣應用成熟的行業(yè)是塑料工業(yè)主要應用于高檔塑料制品??筛纳扑芰夏噶系牧髯冃?,提高其成型性。用作塑料填料具有增韌補強的作用,提高塑料的彎曲強度和彎曲彈性模量,熱變形溫度和尺寸穩定性,同時(shí)還賦予塑料滯熱性。納米碳酸鈣用于油墨產(chǎn)品中體現出了優(yōu)異的分散性和透明性和*的光澤、及優(yōu)異的油墨吸收性和高干燥性。納米碳酸鈣在樹(shù)脂型油墨中作油墨填料,具有穩定性好,光澤度高,不影響印刷油墨的干燥性能.適應性強等優(yōu)點(diǎn)。
三、納米碳酸鈣的分散難點(diǎn)
納米碳酸鈣分散到水中或者溶劑當中,容易出現抱團的現象,導致物料粒徑變大,分散效果不佳,產(chǎn)品改性不充分。如果使用普通的分散設備,很難將納米碳酸鈣分散均勻,會(huì )出現團聚的現象,團聚體難以打開(kāi),而如果采用CIK新研發(fā)的分散設備,研磨分散機的話(huà),先研磨后分散機,解決團聚問(wèn)題,可達納米碳酸鈣還原至納米級。
四、CIK納米碳酸鈣分散設備簡(jiǎn)介
CIK研磨式分散機,是由膠體磨+分散機結合而成的設備,主要是為了解決納米級物料的分散,如:納米碳酸鈣、納米氫氧化鎂、納米氧化鋁、石墨烯、碳納米管等納米級物料的分散。
CDL2000系列研磨分散設備是CIK(上海)公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進(jìn)行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,4P,6F,8SF等六種乳化頭供客戶(hù)選擇)
五、CDL2000系列納米碳酸鈣分散機的特點(diǎn):
① 線(xiàn)速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說(shuō)的濕磨
② 定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。
④ 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結構材料,可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。
產(chǎn)品選型表:
型號 | zui大處理量 L/H | 輸出轉速 rpm | 標準線(xiàn)速度 m/s | 馬達功率 KW | 進(jìn)出口尺寸 |
CDL2000/4 | 300-1000 | 9,000 | 23 | 2,.2 | DN25/DN15 |
CDL2000/5 | 3,000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CDL2000/10 | 8,000 | 4,200 | 23 | 15 | DN50/DN50 |
CDL2000/20 | 20,000 | 3,000 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CDL2000/30 | 40,000 | 1,500 | 23 | 37 | DN150/DN125 |
CDL2000/40 | 70,000 | 1,500 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CDL2000/50 | 125,000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150
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1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數據。
2 處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產(chǎn)品的要求。
3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準確的參數,以便選型和定制。
4 本表的數據因技術(shù)改動(dòng),定制而不符,正確的參數以提供的實(shí)物為準。
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